सीटीडीजी श्रृंखला का स्थायी चुंबक शुष्क चुंबकीय विभाजक 20 मिमी से अधिक के अधिकतम कण आकार वाले अयस्क के शुष्क पृथक्करण के लिए सबसे व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
स्थायी चुंबक शुष्क चुंबकीय विभाजक का व्यापक रूप से धातुकर्म खानों और अन्य उद्योगों में उपयोग किया जाता है, यह बड़े, मध्यम और छोटे खानों की जरूरतों को पूरा कर सकता है, चुंबकीय पृथक्करण संयंत्र में कुचले हुए अयस्क के बाद अधिकतम कण आकार 500 मिमी से अधिक नहीं होने वाले पदार्थ के पूर्व-सांद्रण के लिए उपयोग किया जाता है, मिश्रित अपशिष्ट चट्टान को हटा देता है, भूवैज्ञानिक ग्रेड को बहाल करता है, ऊर्जा की बचत कर सकता है और खपत को कम कर सकता है, प्रसंस्करण संयंत्र की प्रसंस्करण क्षमता में सुधार कर सकता है;
इसका उपयोग खनन कार्यों में किया जाता है, जिससे अपशिष्ट चट्टानों से मैग्नेटाइट को पुनर्प्राप्त किया जा सकता है और अयस्क संसाधनों की उपयोग दर में सुधार किया जा सकता है; इसका उपयोग स्टील स्लैग से धातु लोहा पुनर्प्राप्त करने के लिए किया जाता है; इसका उपयोग कचरा निपटान और उपयोगी धातुओं की छँटाई के लिए किया जाता है।
स्थायी चुंबक शुष्क चुंबकीय विभाजक मुख्य रूप से चुंबकीय पृथक्करण का उपयोग करता है। अयस्क बेल्ट पर समान रूप से फैला होता है और एक स्थिर गति से चुंबकीय ड्रम के ऊपरी भाग तक जाता है। चुंबकीय बल के प्रभाव में, प्रबल चुंबकीय खनिज सतह पर स्थित चुंबकीय रोलर बेल्ट पर चिपक जाते हैं और ड्रम के तल तक पहुँचकर क्षेत्र से बाहर निकल जाते हैं। गुरुत्वाकर्षण के कारण ये खनिज सांद्रित हो जाते हैं। अपशिष्ट चट्टान और दुर्बल चुंबकीय खनिज चुंबकीय बल द्वारा अवशोषित नहीं हो पाते और अपनी गतिज जड़ता के कारण स्थिर नहीं रह पाते, इसलिए ये अयस्क विभाजक के सामने वाले भाग में जाकर अपशिष्ट स्लॉट में चले जाते हैं।
संरचनात्मक दृष्टि से, स्थायी चुंबक शुष्क ब्लॉक चुंबकीय विभाजक में मुख्य रूप से ड्राइविंग मोटर, लोचदार स्तंभ पिन युग्मन, ड्राइविंग रिड्यूसर, क्रॉस स्लाइडर युग्मन, चुंबकीय रोलर असेंबली और चुंबकीय प्रणाली समायोजन रिड्यूसर और अन्य भाग शामिल होते हैं।
संरचना प्रौद्योगिकी के प्रमुख बिंदु
1. 400 ~ 125 मिमी मोटाई वाले कुचले हुए उत्पादों के सबसे बड़े आकार के लिए, अयस्क के बड़े कणों के आकार के कारण, बेल्ट के बाद मोटे क्रशिंग के बाद, बेल्ट विभाग से ड्रम पृथक्करण क्षेत्र में प्रवेश करने की उम्मीद है, उचित अपशिष्ट प्रभाव प्राप्त करने के लिए कास्ट की एक मोटी परत के साथ, चुंबकीय लौह सामग्री के टेलिंग्स को कम करें, इस चरण में चुंबकीय ड्रम की चुंबकीय गहराई अधिक होनी चाहिए, ताकि बड़े अयस्क कणों को पकड़ा जा सके, उत्पाद प्रौद्योगिकी के चरण संरचना के मुख्य बिंदु: (1) ड्रम व्यास, जितना बड़ा उतना बेहतर, आमतौर पर 1400 मिमी या 500 मिमी।
(2) बेल्ट की चौड़ाई यथासंभव चौड़ी है। वर्तमान में चयनित बेल्ट की अधिकतम डिज़ाइन चौड़ाई 3000 मिमी है;
ड्रम के शीर्ष के पास सीधे खंड में बेल्ट को यथासंभव लंबा रखा जाता है, ताकि छँटाई क्षेत्र में प्रवेश करने वाली सामग्री की परत पतली हो।
(3) अधिक चुंबकीय प्रवेश गहराई के लिए, उदाहरण के तौर पर 300 ~ 400 मिमी के अधिकतम छँटाई आकार वाले अयस्क कणों को लेते हुए, ड्रम की सतह से 150 ~ 200 मिमी की दूरी पर चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता आमतौर पर 64kA/m से अधिक होती है, जैसा कि चित्र 1 और तालिका 1 में दिखाया गया है।
(4) प्लेट और ड्रम के बीच की दूरी 400 मिमी से अधिक है, और इसे समायोजित किया जा सकता है।
(5) ड्रम की घूर्णन गति को चुंबकीय उद्घोषणा कोण के समायोजन और सामग्री पृथक्करण उपकरण के समायोजन के साथ समायोजित किया जा सकता है, ताकि छँटाई सूचकांक इष्टतम हो।
चित्र 1 चुंबकीय क्षेत्र बादल
तालिका 1 चुंबकीय क्षेत्र तीव्रता KA/m
| दूरी/मिमी | 0 | 50 | 100 | 150 | 200 | 250 |
| चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता (kA/m) | 780.8 | 357.7 | 196.4 | 127.4 | 81.2 | 59.3 |
| दूरी/मिमी | 300 | 350 | 400 | 450 | 500 |
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| चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता (kA/m) | 41.5 | 30.6 | 21.3 | 16.6 | 12.8 |
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तालिका 1 के अनुसार, चुंबकीय प्रणाली की सतह से 200 मिमी की दूरी पर चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता 81.2 केए/मी है, और चुंबकीय प्रणाली की सतह से 400 मिमी की दूरी पर यह 21.3 केए/मी है।
(2) शुष्क क्रशिंग उत्पादों में अधिकतम कण आकार 100 ~ 50 मिमी के लिए, कण आकार महीन होने के कारण, सामग्री परत पतली हो जाती है, डिजाइन पैरामीटर और मोटे क्रशिंग शुष्क चयन को उचित रूप से समायोजित किया जा सकता है: ① ड्रम का व्यास आमतौर पर 1000, 1200, 1400 मिमी होता है।
② बेल्ट की सामान्यतः प्रयुक्त चौड़ाई 1400, 1600, 1800, 2000 मिमी;
ड्रम के शीर्ष के पास सीधे खंड में बेल्ट को यथासंभव लंबा रखा जाता है, ताकि छँटाई क्षेत्र में प्रवेश करने वाली सामग्री की परत पतली हो।
③अधिक चुंबकीय प्रवेश गहराई के लिए, उदाहरण के तौर पर 100 मिमी के अधिकतम छँटाई आकार वाले अयस्क कणों को लेते हुए, ड्रम की सतह से 100 और 50 मिमी के बीच की दूरी पर चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता आमतौर पर 64kA/m से अधिक होती है, जैसा कि चित्र 2 और तालिका 2 में दिखाया गया है।
④ वितरण प्लेट और ड्रम के बीच की दूरी 100 मिमी से अधिक है, और इसे समायोजित किया जा सकता है।
⑤ ड्रम की घूर्णन गति को चुंबकीय उद्घोषणा कोण के समायोजन और सामग्री पृथक्करण उपकरण के समायोजन के साथ समायोजित किया जा सकता है, ताकि छँटाई सूचकांक इष्टतम हो।
चित्र 2 चुंबकीय क्षेत्र बादल
तालिका 2 चुंबकीय क्षेत्र तीव्रता KA/m
| दूरी/मिमी | 0 | 10 | 20 | 30 | 40 | 50 | 60 | 70 | 80 | 90 | 100 |
| चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता (kA/m) | 376 | 528 | 398 | 336 | 278 | 228 | 193 | 169 | 147 | 119 | 105 |
| दूरी/मिमी | 110 | 120 | 130 | 140 | 150 | 160 | 170 | 180 | 190 | 200 |
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| चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता (kA/m) | 94.4 | 85.2 | 76.4 | 67.7 | 59 | 50.9 | 43.6 | 36.9 | 32.2 | 30.1 |
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तालिका 2 के अनुसार, चुंबकीय प्रणाली की सतह से 100 मिमी की दूरी पर चुंबकीय क्षेत्र की तीव्रता 105 केए/मी है, और चुंबकीय प्रणाली की सतह से 200 मिमी की दूरी पर यह 30.1 केए/मी है।
(3) 25 ~ 5 मिमी के अधिकतम कण आकार वाले महीन उत्पादों के शुष्क निपटान के लिए, डिजाइन और चयन में छोटे ड्रम व्यास और छोटी चुंबकीय प्रवेश गहराई का चयन किया जा सकता है, जिस पर यहां चर्चा नहीं की जाएगी।
पोस्ट करने का समय: 3 फरवरी 2021